ホーム > 製品 > ホットプレス炉 >
半導体用 高温AlNセラミック 2200℃ 真空プレス焼結炉

半導体用 高温AlNセラミック 2200℃ 真空プレス焼結炉

起源の場所:

湖南省、中国

ブランド名:

Nuotian

証明:

CE

モデル番号:

NTI-RYL-500T

お問い合わせ
引金 を 求め て ください
製品の詳細
タイプ:
抵抗炉
パワーコントロール:
SCR
ビデオ出検:
提供された
機械試験報告書:
提供された
コアコンポーネント:
PLC
電圧:
380V
寸法(長さ*幅*高さ):
カスタマイズ
重量(t):
2
保証:
1年
主要なセールスポイント:
正確な温度制御
製品名:
アドバンストセラミックホットプレス焼結粉末2200℃真空処理炉
アフターサービスの提供:
海外でも機械の修理に対応できるエンジニア
最高温度:
摂氏2300度
型番:
NTI-RYL-500T
作業エリア:
Ø620×H500mm
入力電圧:
380V
職場の雰囲気:
真空または不活性ガス雰囲気
応用:
Sic粉末ホットプレス焼結
支払いと配送条件
最小注文数量
1セット
価格
$80000-100000
パッケージの詳細
海上での標準梱包
受渡し時間
90日
支払条件
T/T
供給の能力
20セット/月
関連製品
お問い合わせ
今すぐ連絡
製品説明

半導体用先進窒化アルミニウムセラミック 2200℃ 真空プレス焼結炉

説明:                                                                                                                         

  • バッチ式抵抗加熱炉として設計されたこの2200℃高温真空熱プレス装置は、精密かつ効率的な材料処理を提供するために特別に設計されています。優れた温度均一性を誇り、高品質な処理を保証します。先進的な抵抗加熱技術と完全に密閉された真空環境を組み合わせ、全運転プロセス中に安定した高温条件を維持します。
  • 工業グレードの堅牢性で構築されたこの炉は、堅牢な構造とインテリジェントな温度制御システムを備えています。このシステムにより、加熱速度、保持時間、冷却手順を正確に調整でき、ワークピースが温度偏差なしに均一に加熱されることを保証します。
  • 複数のサイズオプションが用意されており、この炉は大規模な大量生産と小ロット処理の両方に適しています。炭化ホウ素、セラミック粉末、タングステン粉末など、さまざまな材料を処理できます。
  • ワークフローの効率を簡素化するユーザーフレンドリーな操作インターフェースを備えており、過熱アラームや真空漏れ検出などの完全な安全保護システムも備えています。これらの実用的な機能により、ラボの研究開発シナリオと工業規模の製造施設のいずれにもシームレスに統合できる汎用性の高いソリューションとなっています。

半導体用 高温AlNセラミック 2200℃ 真空プレス焼結炉

用途:                                                                                                                        

  • セラミック材料: 炭化ホウ素粉末、炭化ケイ素粉末、アルミナ 粉末、窒化ケイ素粉末、その他の先進セラミック部品。
  • 硬質合金・金属: 炭化タングステン粉末、炭化物合金粉末、金属ビレット、粉末冶金製品(例:ネオジム磁石、NdFe14B)の処理。



    半導体用 高温AlNセラミック 2200℃ 真空プレス焼結炉


仕様:                                                                                                             

熱プレス炉 -- 技術パラメータ

 

生産用途

NTI-RYL-20T

NTI-RYL-50T

NTI-RYL-100T

NTI-RYL-200T

NTI-RYL-400T

NTI-RYL-600T

NTI-RYL-800T

作業サイズ

mm

φ160x160

φ200x300

φ300x400

φ400x500

φ500x600

φ600x700

φ700x800

加熱タイプ

 

グラファイト抵抗

制御タイプ

/

SCR制御 

昇圧速度

Pa/h

3

5

6

6

6

6

6

IF電力

Kw

40

75

150

250

400

550

700

到達真空度

Pa

6*10-3

最大作業

温度

℃

2300

2300

2300

2300

2300

2300

2300

圧力

Ton

20

50

100

200

400

600

800

変位

mm

0-100

0-150

0-250

0-350

0-450

0-550

0-650

作業環境

/

真空またはAr、窒素雰囲気保護(微正圧)



炉構成:                                                                                                  


  • 制御システム: オプションの1対1(制御盤1台につき炉1台)制御モード、デルタPLCを搭載し、安定したインテリジェントな操作を実現。

主要標準・オプションコンポーネント:

  • 真空システム: 高性能真空ユニット(真空ポンプ、バルブグループ含む)を統合し、焼結中の安定した真空環境を維持。
  • ガス精製器: 高効率ガス精製装置(オプション)で不純物を除去し、雰囲気制御プロセスにクリーンなガス供給を保証。
  • 冷却塔: オプションの冷却装置で効率的な放熱を実現し、高温コンポーネントの安定した動作を保証。
  • 温度測定: タングステン・レニウム熱電対を装備し、リアルタイムで正確な高温監視(2300℃までの精密温度制御に対応)。
  • エアコンプレッサー: オプションの補助装置で、空圧コンポーネントに安定した空気供給を提供。

 特徴・利点:                                                                                                                                    


  • 高温能力: 最大2300℃に達します。
  • 真空・抵抗加熱: 真空環境により材料の酸化を防ぎます。
  • 精密制御: FP93 日本島田製高精度温度制御システムを搭載し、安定した焼結プロセスと一貫した製品品質を保証します。
  • 汎用性: 幅広い材料(炭素、セラミック、合金、C/C、特殊粉末)に対応し、多様な生産ニーズに応えます。
  • 安全性・信頼性: 短絡、過圧、過熱、過電流、水不足などの保護機構を備え、安全な操作を実現します。

    半導体用 高温AlNセラミック 2200℃ 真空プレス焼結炉

アフターサービス:                                                                                               

お客様の機器がスムーズに稼働するよう、包括的なアフターサービスを提供します:
  • 保証: 主要電気部品の製造不良に対する1年間の保証。
  • 生涯サービス: 生涯技術サポート(リモートトラブルシューティング、メンテナンスガイダンス、交換部品供給を含む。非保証部品は有料)。
  • 応答効率: 緊急の問題に対する24時間オンライン相談。お客様のニーズに応じてオンサイトサービス(グローバル対応)を手配可能(旅費は別途)。

半導体用 高温AlNセラミック 2200℃ 真空プレス焼結炉














お問い合わせを直接お送りください