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Personnalisation de la machine de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sous vide avec contrôle IGBT

four à CVD
2026-01-23
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#Équipement CVD #Forneau de dépôt de vapeur chimique #Machine CVD
Four à CVD sous vide haute température 2500℃ à chauffage par induction pour le traitement du SiC Description : Le four de dépôt vertical est conçu pour le traitement à haute température (≤2500℃) de ... Voir plus
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