کوره خلاء مقاومتی درجه تولید تا 2200 درجه سانتیگراد برای پخت پلی سیلیکون

توضیحات:

• این کوره با مقاومت خلاء 1 به 1 که برای تولید انبوه پلی سیلیکون درجه نیمه هادی طراحی شده است، گرمایش پایدار 2200 درجه سانتیگراد را از طریق یک محفظه خلاء مهر و موم شده و گرمایش با مقاومت برتر ارائه می دهد. این دستگاه با برق 3 فاز 380 ولت با کنترل تریستور کار می کند و خروجی دمای فوق العاده پایدار را برای پردازش مواد با خلوص بالا تضمین می کند.
• ساختار صنعتی ناهموار آن در برابر سایش ناشی از عملکرد مداوم مقاومت می کند، در حالی که سیستم تنظیم دقیق دما نوسانات حرارتی را حذف می کند - که برای حفظ خلوص و قوام پلی سیلیکون در دسته های بزرگ بسیار مهم است. طراحی مهر و موم شده کوره از آلودگی خارجی جلوگیری می کند و استانداردهای صنعت نیمه هادی را رعایت می کند.
• مجهز به حفاظت های ایمنی چندلایه (آژیرهای گرمای بیش از حد، هشدارهای خرابی خلاء، توقف اضطراری) و یک رابط بصری، به حداقل نظارت نیاز دارد، و آن را برای پخت پلی سیلیکون در مقیاس بزرگ برای سلول های خورشیدی و ویفرهای نیمه هادی ایده آل می کند.

کاربرد:

• پخت پلی سیلیکون: تولید انبوه پلی سیلیکون با خلوص بالا برای تولید سلول های خورشیدی.
• پردازش مواد نیمه هادی: عملیات حرارتی مداوم پلی سیلیکون برای تولید ویفر نیمه هادی.
• درمان سیلیکونی با خلوص بالا: پردازش انبوه مواد سیلیکونی برای قطعات الکترونیکی.

مشخصات:

پیکربندی کوره:

• قابلیت دمای بالا: تا 2200 ℃ می رسد.
• گرمایش وکیوم و مقاومتی: محیط خلاء از اکسید شدن مواد جلوگیری می کند.
• کنترل دقیق: مجهز به سیستم کنترل دمای بسیار دقیق شیمادن ژاپنی FP93 که فرآیندهای پخت پایدار و کیفیت محصول را تضمین می کند.
• تطبیق پذیری: سازگار با طیف گسترده ای از مواد (کربن، سرامیک، آلیاژها، c/c، پودرهای ویژه) که نیازهای مختلف تولید را برآورده می کند.
• ایمنی و قابلیت اطمینان: مجهز به اتصال کوتاه، فشار بیش از حد، دمای بیش از حد، جریان بیش از حد، کمبود آب و سایر مکانیسم های حفاظتی برای عملکرد ایمن.