Лаборатория обработки графитовой пленки для высокотемпературной термической обработки
2026-02-16
Лаборатория обработки графитовой пленки для высокотемпературной термической обработки
Печь: 3200°C Высокотемпературная вакуумная лаборатория графитизации
Материал: ПИ пленка
Цель: графитизация в графитовую пленку
Ключевой параметр: 2800°C тепловая обработка графитизации и время хранения
![]()
![]()
![]()