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Laboratorio de tratamiento térmico a alta temperatura de la película de grafito

2026-02-16

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Laboratorio de procesamiento de tratamiento térmico a alta temperatura de película de grafito

Horno: Horno de laboratorio de grafitización al vacío a alta temperatura de 3200 ℃

Material: Película de PI

Objetivo: Grafitización en película de grafito

Parámetro clave: Tratamiento térmico de grafitización a 2800 ℃ y horas de mantenimiento

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