Laboratorio de tratamiento térmico a alta temperatura de la película de grafito
2026-02-16
Laboratorio de procesamiento de tratamiento térmico a alta temperatura de película de grafito
Horno: Horno de laboratorio de grafitización al vacío a alta temperatura de 3200 ℃
Material: Película de PI
Objetivo: Grafitización en película de grafito
Parámetro clave: Tratamiento térmico de grafitización a 2800 ℃ y horas de mantenimiento
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