ผนัง PI หม้อต่อต้านกราฟิตอุตสาหกรรมสําหรับเหล็กเหล็กเหนียวและ SiC Sintering ด้วยเทคโนโลยี Vakuum และการก่อสร้างที่แข็งแรง

คําอธิบาย:

• ออกแบบมาเพื่อการผลิตอุตสาหกรรมโดยไม่หยุดยั้ง เตาเผาแบบความต้านทานระยะว่างแบบ 1 ต่อ 1 นี้บรรลุถึง 2200 ° C ผ่านการทําความร้อนความต้านทานที่มีประสิทธิภาพสูงและห้องว่างที่ปิด (20Pa ความต้านทานสูงสุด)เครื่องไฟฟ้าไฟฟ้า 3 ขั้นตอน 380 วอลต์ พร้อมควบคุมไทริสเตอร์, มันรับประกันผลิตอุณหภูมิที่คงที่ แม้ในช่วงวงจรการผลิตที่ยาว
• โครงสร้างอุตสาหกรรมที่ใช้งานหนักของมัน ทนต่อการใช้งานต่อเนื่องขณะที่ระบบควบคุมอุณหภูมิที่ฉลาดปรับระดับอัตราการทําความร้อนและเวลาเก็บไว้อย่างแม่นยํา เพื่อให้การประมวลผลของชุดใหญ่เป็นแบบเดียวกันการออกแบบนี้ทําให้ความแตกต่างของผลิตภัณฑ์น้อยลง และเพิ่มผลผลิตโดยรวมสําหรับวัสดุที่มีความต้องการสูง
• อุปกรณ์พร้อมกับส่วนประกอบความปลอดภัยอัตโนมัติ (การตรวจสอบการรั่วไหลของแอกุ๊ม, การปิดอากาศเกินอุณหภูมิ, การป้องกันการปิดพลังงาน) และแผ่นการทํางานที่เรียบง่ายทําให้มันเหมาะสําหรับการผลิตหนัง PI ในจํานวนมาก, วัสดุที่ป้องกันรังสี .

การใช้งาน:

• การผลิตเหล็กเหล็กแข็ง: การบําบัดความร้อนขนาดใหญ่ของ Tungsten Carbide และส่วนผสม rhenium สําหรับเครื่องมือและเครื่องจักรตัด
• การผลิตองค์ประกอบ SiC: การซินเตอร์ซิลิคอนคาร์ไบด์เป็นมวลสําหรับการใช้งานในครึ่งตัวนําและอุปกรณ์อุตสาหกรรม
• การแปรรูปวัสดุคาร์บอน: การผสมผสานภาพสูงของฟิล์ม PI และวัสดุที่กันรังสีสําหรับห่วงโซ่อุปกรณ์อุตสาหกรรม

รายละเอียด

การตั้งค่าเตาอบ:

• ความสามารถในการใช้อุณหภูมิสูง: ความร้อนสูงถึง 2200 °C
• การทําความร้อนด้วย Vakuum และ Resistance: บรรยากาศว่างป้องกันการออกซิเดนของวัสดุ
• การควบคุมอย่างแม่นยํา: อุปกรณ์พร้อมกับระบบควบคุมอุณหภูมิแม่นยําสูง FP93 ของญี่ปุ่น Shimaden, รับประกันกระบวนการทําซินเตอร์ที่มั่นคงและคุณภาพสินค้าที่ตรงกัน
• ความหลากหลาย: เหมาะสมกับวัสดุที่หลากหลาย (คาร์บอน เซรามิค สับสลัด ซี / ซี ขาวพิเศษ) ตอบสนองความต้องการการผลิตที่หลากหลาย
• ความปลอดภัยและความน่าเชื่อถือ: อุปกรณ์พร้อมกับวงจรสั้น, ความดันเกิน, อุณหภูมิเกิน, อุณหภูมิเกิน, การขาดน้ํา, และกลไกป้องกันอื่น ๆ สําหรับการทํางานที่ปลอดภัย