Высоковакуумная резистивная печь до 2200℃ для массового производства SiC и графита

Описание:                                                                                                                         

• Эта вакуумная резистивная печь 1-к-1 разработана для крупносерийного промышленного производства, обеспечивая стабильный нагрев до 2200℃ с помощью передовой резистивной технологии и герметичной вакуумной камеры (предельный вакуум 20 Па). Она работает от трехфазного напряжения 380 В с тиристорным управлением, обеспечивая надежную работу в круглосуточных производственных циклах.
• Построенная на прочной раме, способной выдерживать промышленные нагрузки, интеллектуальная система контроля температуры печи поддерживает равномерный нагрев больших партий, снижая разброс продукции и повышая выход продукции. Ее оптимизированная конструкция термического цикла сокращает время обработки, повышая общую эффективность производства.
• Оснащенная удобным интерфейсом и многоуровневой защитой (сигнализация перегрева, предупреждения о сбое вакуума, резервное питание при отключении электроэнергии), она требует минимального ручного контроля, что делает ее лучшим выбором для массового спекания SiC, графита и твердых сплавов.

Применение:                                                                                                                        

• Массовое производство SiC: Крупномасштабное спекание карбида кремния для производства полупроводников и промышленных компонентов.
• Термическая обработка графита: Высокообъемная обработка графита и углеродных материалов для производства электродов и радиационно-защищенных деталей.
• Производство твердых сплавов: Непрерывная термическая обработка деталей из карбида вольфрама для линий режущего инструмента и компонентов машин.

Спецификация:                                                                                                             

Конфигурация печи:                                                                                                  

• Высокотемпературные возможности: Достигает до 2200℃.
• Вакуум и резистивный нагрев: Вакуумная среда предотвращает окисление материала.
• Точный контроль: Оснащена японской высокоточной системой контроля температуры Shimaden FP93, обеспечивающей стабильные процессы спекания и стабильное качество продукции.
• Универсальность: Совместима с широким спектром материалов (углерод, керамика, сплавы, c/c, специальные порошки), удовлетворяя различные производственные потребности.
• Безопасность и надежность: Оснащена механизмами защиты от короткого замыкания, избыточного давления, перегрева, перегрузки по току, нехватки воды и другими механизмами защиты для безопасной работы.