Horno de Resistencia al Vacío de Alta Temperatura Controlado por Pantalla Táctil PLC

Descripción:                                                                                                                         

• Diseñado para el procesamiento térmico industrial continuo de cerámicas de óxido de tierras raras, este horno de resistencia al vacío personalizado alcanza hasta 2200°C con calentamiento por resistencia eficiente y cámara de vacío sellada, vacío final de 20Pa. Alimentado por suministro trifásico de 380V y regulador de tiristores, ofrece una salida de temperatura estable durante ciclos de producción largos.
• Construido con un robusto marco industrial de alta resistencia para soportar operaciones cíclicas prolongadas. Su controlador de temperatura inteligente ajusta con precisión las rampas de calentamiento y los períodos de mantenimiento, asegurando un tratamiento térmico uniforme en grandes lotes. Esto reduce eficazmente la inconsistencia del producto y mejora el rendimiento para materiales avanzados de alto rendimiento.
• Equipado con enclavamientos de seguridad automáticos integrales: monitoreo de fugas de vacío, corte por sobretemperatura y protección contra fallos de alimentación. Con una interfaz de operación fácil de usar para reducir la carga de trabajo manual y los peligros operativos. Adecuado para la producción a granel de película de PI, materiales de blindaje contra radiación, óxidos de tierras raras y varios componentes cerámicos.
• Horno de sinterización al vacío con calentamiento de grafito para sinterización sin presión de carburo de silicio semi-conductor, temperatura máxima de trabajo 2000°C.

Aplicación:                                                                                                                        

• Fabricación de Aleaciones Duras: Tratamiento térmico a gran escala de piezas de carburo de tungsteno y aleaciones de renio para herramientas de corte y maquinaria.
• Producción de Componentes de SiC: Sinterización masiva de carburo de silicio para aplicaciones en semiconductores y equipos industriales.
• Procesamiento de Materiales de Carbono: Desaglomeración de alto rendimiento de película de PI y materiales a prueba de radiación para cadenas de suministro industriales.

Especificación:                                                                                                             

: Opcional 1 a 1 (un gabinete de control para un horno), equipado con

• Vacío y Calentamiento por Resistencia: El entorno de vacío previene la oxidación del material.
• Control Preciso: Equipado con el Sistema de Control de Temperatura de Alta Precisión FP93 Shimaden japonés, asegurando procesos de sinterización estables y calidad de producto consistente.
• Versatilidad: Compatible con una amplia gama de materiales (carbono, cerámicas, aleaciones, c/c, polvos especiales), satisfaciendo diversas necesidades de producción.
• Seguridad y Fiabilidad: Equipado con mecanismos de protección contra cortocircuitos, sobrepresión, sobretemperatura, sobrecorriente, falta de agua y otros para una operación segura.
• Servicio Postventa:                                                                                               Proporcionamos un soporte postventa integral para garantizar que su equipo funcione sin problemas:

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