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High Temp Percision Pressure Control Hot Press Furnace for Silicon Carbide
High Temp Percision Pressure Control Hot Press Furnace for Silicon Carbide
Lieu d'origine:
Hunan, Chine
Nom de marque:
Nuotian
Certification:
CE
Numéro de modèle:
NTI-RYL-500T
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Détails du produit
Le type:
Four à résistance
Contrôle de puissance:
SCR
Inspection vidéo à la sortie:
Fourni
Rapport d'essai de machines:
Fourni
Composants de base:
API
Tension:
380V
Dimension (l*l*h):
Personnalisation
poids (t):
2
Garantie:
1 an
Points de vente clés:
Contrôle précis de la température
Nom du produit:
Four chaud en céramique avancé de traitement sous vide de la poudre 2200°C de frittage de presse
Service après-vente assuré:
Ingénieurs disponibles pour entretenir les machines à l’étranger
Température maximale:
2300 degrés Celsius
Numéro de modèle.:
NTI-RYL-500T
Zone de travail:
Ø620xH500mm
Tension d'entrée:
380V
Ambiance de travail:
Atmosphère sous vide ou sous gaz inerte
Application:
Frittage à chaud de poudre Sic
Conditions de paiement et d'expédition
Quantité de commande min
1 ensemble
Prix
$80000-100000
Détails d'emballage
Emballage standard par mer
Délai de livraison
90 jours
Conditions de paiement
T/T
Capacité d'approvisionnement
mois de 20 ensembles
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Description du produit
High Temp Percision Pressure Control Hot Press Furnace for Silicon Carbide Description: This equipment is a vacuum hot pressing system adopting batch type resistance heating mode which is specially developed for densifying diamond copper composite parts through high temperature and pressure treatment. With the combination of inert gas shielding and tightly sealed vacuum chamber the furnace maintains steady elevated temperature working conditions effectively lowering the
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