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High Temp Percision Pressure Control Hot Press Furnace for Silicon Carbide
High Temp Percision Pressure Control Hot Press Furnace for Silicon Carbide
Lugar de origem:
Hunan, China
Marca:
Nuotian
Certificação:
CE
Número do modelo:
NTI-RYL-500T
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Detalhes do produto
Tipo:
forno de resistência
Controle de poder:
SCR
Inspeção de saída de vídeo:
Oferecido
Relatório de teste de máquinas:
Oferecido
Componentes principais:
CLP
Tensão:
380 V
Dimensão (l*w*h):
Personalização
peso (t):
2
Garantia:
1 ano
Principais argumentos de venda:
Controle preciso de temperatura
Nome do produto:
Fornalha quente cerâmica avançada do tratamento do vácuo do pó 2200°C da aglomeração da imprensa
Serviço pós-venda fornecido:
Engenheiros disponíveis para fazer manutenção em máquinas no exterior
Temperatura máxima:
2300 graus Celsius
Modelo NÃO.:
NTI-RYL-500T
Área de Trabalho:
Ø620xH500mm
Tensão de entrada:
380 V
Ambiente de trabalho:
Atmosfera de vácuo ou gás inerte
Aplicativo:
Sinterização por prensa a quente de pó Sic
Termos de pagamento e envio
Quantidade de ordem mínima
1 conjunto
Preço
$80000-100000
Detalhes da embalagem
Embalagem padrão por mar
Tempo de entrega
90 dias
Termos de pagamento
T/T
Habilidade da fonte
mês de 20 grupos
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Descrição do produto
High Temp Percision Pressure Control Hot Press Furnace for Silicon Carbide Description: This equipment is a vacuum hot pressing system adopting batch type resistance heating mode which is specially developed for densifying diamond copper composite parts through high temperature and pressure treatment. With the combination of inert gas shielding and tightly sealed vacuum chamber the furnace maintains steady elevated temperature working conditions effectively lowering the
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