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High Temp Percision Pressure Control Hot Press Furnace for Silicon Carbide
High Temp Percision Pressure Control Hot Press Furnace for Silicon Carbide
Luogo di origine:
Hunan, Cina
Marca:
Nuotian
Certificazione:
CE
Numero di modello:
NTI-RYL-500T
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Dettagli del prodotto
Tipo:
Forno a resistenza
Controllo di potenza:
SCR
Videoispezione in uscita:
Fornito
Rapporto di prova del macchinario:
Fornito
Componenti principali:
PLC
Voltaggio:
380 V
Dimensione (l*w*h):
Personalizzazione
peso (t):
2
Garanzia:
1 anno
Punti chiave di vendita:
Controllo accurato della temperatura
Nome del prodotto:
Forno per trattamento sotto vuoto a 2200 °C di polvere di sinterizzazione a caldo in ceramica avanza
Servizio post-vendita fornito:
Ingegneri disponibili per la manutenzione dei macchinari all'estero
Temperatura massima:
2300 gradi Celsius
Modello n.:
NTI-RYL-500T
Area di lavoro:
Ø620xH500mm
Tensione in ingresso:
380 V
Atmosfera lavorativa:
Atmosfera di vuoto o gas inerte
Applicazione:
Sinterizzazione con pressa a caldo in polvere Sic
Termini di pagamento e di spedizione
Quantità di ordine minimo
1 set
Prezzo
$80000-100000
Imballaggi particolari
Imballaggio standard via mare
Tempi di consegna
90 giorni
Termini di pagamento
T/T
Capacità di alimentazione
un mese di 20 insiemi
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Descrizione del prodotto
High Temp Percision Pressure Control Hot Press Furnace for Silicon Carbide Description: This equipment is a vacuum hot pressing system adopting batch type resistance heating mode which is specially developed for densifying diamond copper composite parts through high temperature and pressure treatment. With the combination of inert gas shielding and tightly sealed vacuum chamber the furnace maintains steady elevated temperature working conditions effectively lowering the
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