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नवनिर्मित सिंटरिंग भट्टी का परीक्षण सफल रहा
2025-11-28
मुख्य उद्देश्य: उच्च-तापमान रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) तकनीक को अपनाकर उच्च-शुद्धता वाले सिलिका पाउडर का कुशल संग्रह और शुद्धिकरण करना। यह अर्धचालक सिलिकॉन सामग्री, ऑप्टिकल ग्लास कच्चे माल और उच्च-अंत सिरेमिक योजक जैसे क्षेत्रों में कच्चे माल की तैयारी के लिए उपयुक्त है।
परीक्षण के लिए रनिंग और सिंटरिंग सफल रहा।
