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La prueba del nuevo horno de sinterización fue exitosa
2025-11-28
Propósito Principal: Adoptar la tecnología de deposición química de vapor (CVD) a alta temperatura para lograr la recolección y purificación eficiente de polvo de sílice de alta pureza. Es adecuado para la preparación de materias primas en campos como materiales de silicio para semiconductores, materias primas para vidrio óptico y aditivos cerámicos de alta gama.
La ejecución y sinterización de prueba es exitosa.
