Испытание новой конструкции спекательной печи прошло успешно
2025-11-28
Основная цель: Применение технологии химического осаждения из газовой фазы (CVD) при высоких температурах для эффективного сбора и очистки порошка диоксида кремния высокой чистоты. Подходит для подготовки сырья в таких областях, как производство кремниевых материалов для полупроводников, сырья для оптического стекла и высококачественных керамических добавок.
Пробный запуск и спекание прошли успешно.
![]()