新しく設計された焼結炉のテストは成功しました
2025-11-28
主要 な 目的高度な純度シリカ粉末の効率的な収集と浄化を実現するために高温化学蒸気沉積 (CVD) 技術を採用する.半導体シリコン材料などの分野で原材料の準備に適しています高級セラミック添加物
試用用として実行し,シンタリングは成功します.
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2025-11-28
主要 な 目的高度な純度シリカ粉末の効率的な収集と浄化を実現するために高温化学蒸気沉積 (CVD) 技術を採用する.半導体シリコン材料などの分野で原材料の準備に適しています高級セラミック添加物
試用用として実行し,シンタリングは成功します.
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