Forno a Vácuo de Alta Resistência à Temperatura Controlado por Tela de Toque PLC

Descrição:                                                                                                                         

• Projetado para tratamento térmico industrial contínuo de materiais de óxido de terras raras, este forno de resistência a vácuo adota uma estrutura de aquecimento por resistência de alta eficiência, atingindo uma temperatura máxima de trabalho de até 2200°C.
• Possui uma câmara bem selada com vácuo final de 20Pa. Suportado por fonte de alimentação trifásica de 380V e sistema de regulação de potência por tiristor, ele fornece saída de temperatura estável mesmo durante ciclos de produção de longa duração.
• Construído com uma estrutura robusta de grau industrial para suportar operação contínua de longa duração. Sua unidade de controle de temperatura inteligente pode definir e regular com precisão as taxas de aquecimento e os períodos de manutenção, garantindo resultados de tratamento térmico consistentes para lotes em massa.
• Esta estrutura reduz efetivamente a inconsistência do produto e aumenta o rendimento de produtos acabados para materiais avançados de alto desempenho.
• Equipado com módulos abrangentes de intertravamento de segurança automático, incluindo monitoramento de vazamento de vácuo, corte por excesso de temperatura e proteção contra falha de energia.
• A interface operacional intuitiva reduz a carga de trabalho manual e os riscos de segurança. É bem adequado para fabricação em lote de filme de PI, materiais de blindagem contra radiação, óxidos de terras raras e vários componentes cerâmicos avançados.
• Versão disponível: Forno de Sinterização a Vácuo de 2000°C com Aquecimento por Resistência de Grafite para Sinterização sem Pressão de Carboneto de Silício Semi-isolante.

Aplicação:                                                                                                                        

• Fabricação de Ligas Duras: Tratamento térmico em larga escala de peças de carboneto de tungstênio e ligas de rênio para ferramentas de corte e máquinas.
• Produção de Componentes de SiC: Sinterização em massa de carboneto de silício para aplicações em semicondutores e equipamentos industriais.
• Processamento de Materiais de Carbono: Desaglomeração de alto rendimento de filme de PI e materiais à prova de radiação para cadeias de suprimentos industriais.

Especificação:                                                                                                             

Configuração do Forno:                                                                                                  

• Capacidade de Alta Temperatura: Atinge até 2200°C.
• Aquecimento a Vácuo e Resistência: O ambiente de vácuo impede a oxidação do material.
• Controle Preciso: Equipado com Sistema de Controle de Temperatura de Alta Precisão Shimaden Japonês FP93, garantindo processos de sinterização estáveis e qualidade de produto consistente.
• Versatilidade: Compatível com uma ampla gama de materiais (carbono, cerâmica, ligas, c/c, pós especiais), atendendo a diversas necessidades de produção.
• Segurança e Confiabilidade: Equipado com mecanismos de proteção contra curto-circuito, sobrepressão, excesso de temperatura, sobrecorrente, falta de água e outros para operação segura.

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