فرن لجمع بخار أوكسيد السيليكون
2025-11-28
الشركة المصنعة: Zhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd.
الغرض الأساسي: اعتماد تقنية الترسيب الكيميائي للبخار (CVD) ذات درجة الحرارة العالية لتحقيق تجميع وتنقية فعالة لمسحوق السيليكا عالي النقاء. وهي مناسبة لإعداد المواد الخام في مجالات مثل مواد السيليكون لأشباه الموصلات، والمواد الخام للزجاج البصري، والمواد المضافة للسيراميك المتطور.
خلفية المشروع
شركة تكنولوجيا مواد جديدة متخصصة في البحث والتطوير وإنتاج مسحوق السيليكا عالي النقاء من درجة أشباه الموصلات. كان لدى معداتها الأصلية مشاكل مثل انخفاض كفاءة التجميع، وعدم مطابقة نقاء المنتج للمعايير، وارتفاع استهلاك الطاقة, مما لم يلبِ المعايير الصارمة لصناعة أشباه الموصلات لنقاء مسحوق السيليكا (يتطلب ≥99.999٪) وتوحيد حجم الجسيمات.
بعد البحث في الصناعة، تعاونت الشركة أخيرًا مع Zhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd. وقامت بتخصيص فرن تجميع بخار السيليكا NT-QX-2000 لترقية عملية الإنتاج.
