Four à collecte en phase vapeur d'oxyde de silicium

Produit de fabrication:La Commission a examiné les informations fournies par les autorités chinoises.Je suis désolée.

Le but principal:Adoption de la technologie de dépôt de vapeur chimique à haute température (CVD) pour obtenir une collecte et une purification efficaces de la poudre de silice de haute pureté.Il convient à la préparation de matières premières dans des domaines tels que les matériaux en silicium semi-conducteurs, des matières premières de verre optique et des additifs céramiques haut de gamme.Je suis désolée.

Contextes du projetJe suis désolée.

Une nouvelle entreprise de technologie des matériaux spécialisée dans la R & D et la production de poudre de silice de haute pureté de qualité semi-conducteur.faible efficacité de la collecte, pureté du produit inférieure à la norme et consommation d'énergie élevée, qui ne répondaient pas aux normes strictes de l'industrie des semi-conducteurs en matière de pureté de la silice en poudre (exigant ≥ 99,999%) et d'uniformité des particules.Je suis désolée.

Après avoir effectué des recherches dans l'industrie, la société a finalement coopéré avec Zhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd.et personnalisé le four de collecte de vapeur de silice NT-QX-2000 pour améliorer le processus de production.