場合

シリコンオキシド蒸気相収集炉

2025-11-28

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メーカー: Zhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd.​

主要目的: 高温化学気相成長（CVD）技術を採用し、高純度シリカ粉末の効率的な回収と精製を実現します。半導体シリコン材料、光学ガラス原料、高級セラミック添加剤などの分野における原料調製に適しています。​

プロジェクトの背景​

半導体グレードの高純度シリカ粉末の研究開発と製造を専門とする新素材技術会社。元の設備には、低い回収効率、製品純度の基準外れ、高いエネルギー消費などの問題があり、シリカ粉末の純度（99.999％以上が必要）と粒度均一性に対する半導体業界の厳しい基準を満たすことができませんでした。​

業界調査の後、同社は最終的にZhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd.と協力し、NT-QX-2000シリカ蒸気回収炉をカスタマイズして、製造プロセスをアップグレードしました。

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