Forno per la raccolta di vapore in fase di ossido di silicio

Produttore:Zhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd.- Sì.

Scopo principale:Adottare la tecnologia di deposizione chimica a vapore ad alta temperatura (CVD) per ottenere una raccolta e una purificazione efficienti di polvere di silice di alta purezza.È adatto per la preparazione di materie prime in settori quali i materiali di silicio semiconduttori, materie prime di vetro ottico e additivi ceramici di alta gamma.- Sì.

Anteprima del progetto- Sì.

Una nuova società di tecnologia dei materiali specializzata nella ricerca e sviluppo e nella produzione di polvere di silice di alta purezza di grado semiconduttore.bassa efficienza di raccolta, purezza del prodotto inferiore alle norme e elevato consumo energetico, che non soddisfa le severe norme dell'industria dei semiconduttori per la purezza della polvere di silice (che richiede ≥ 99,999%) e l'uniformità delle dimensioni delle particelle.- Sì.

Dopo aver effettuato ricerche nel settore, la società ha finalmente collaborato con la Zhuzhou Nuotian Electric Heating Technology Co., Ltd.e personalizzato il forno di raccolta del vapore di silicio NT-QX-2000 per aggiornare il processo di produzione.