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Forno a pressão quente para formação de pó cerâmico para componentes BN de semicondutores

Forno a pressão quente para formação de pó cerâmico para componentes BN de semicondutores

Lugar de origem:

Hunan, China

Marca:

Nuotian

Certificação:

CE

Número do modelo:

NTI-RYL-200T

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Detalhes do produto
Tipo:
forno de resistência
Controle de poder:
SCR
Inspeção de saída de vídeo:
Oferecido
Relatório de teste de máquinas:
Oferecido
Componentes principais:
CLP
Tensão:
380 V
Dimensão (l*w*h):
Personalização
peso (t):
2
Garantia:
1 ano
Principais argumentos de venda:
Controle preciso de temperatura
Nome do produto:
Fornalha quente do aquecimento da resistência do vácuo do tratamento da imprensa do material 2200°C
Serviço pós-venda fornecido:
Engenheiros disponíveis para fazer manutenção em máquinas no exterior
Temperatura máxima:
2300 graus Celsius
Modelo não.:
NTI-RYL-200T
Área de Trabalho:
Ø400xH500mm
Tensão de entrada:
380 V
Ambiente de trabalho:
Atmosfera de vácuo ou gás inerte
Aplicativo:
Sinterização por prensa a quente de pó cerâmico SiC / BN / AL
Termos de pagamento e envio
Quantidade de ordem mínima
1 conjunto
Preço
$80000-100000
Detalhes da embalagem
Embalagem padrão por mar
Tempo de entrega
90 dias
Termos de pagamento
T/T
Habilidade da fonte
mês de 20 grupos
Descrição do produto

Forno de Prensa a Quente para Formação de Pó Cerâmico para Componentes de Semicondutores de BN

Descrição:                                                                                                                         

  • Elaborado como um dispositivo de aquecimento por resistência do tipo em batelada, este forno de prensa a quente a vácuo de alta temperatura de 2200°C é projetado especificamente para processamento de materiais preciso e de alta eficiência. Entregando uniformidade de temperatura excepcional para garantir resultados de tratamento de primeira linha, ele combina tecnologia de aquecimento por resistência de ponta com um ambiente a vácuo totalmente selado, garantindo condições estáveis de alta temperatura durante toda a operação.
  • Projetado com durabilidade de nível industrial, o forno apresenta uma estrutura robusta e um sistema inteligente de controle de temperatura – permitindo a regulação precisa de taxas de aquecimento, tempos de permanência e processos de resfriamento. Isso garante o aquecimento uniforme das peças de trabalho.
  • Disponível em vários tamanhos, é adequado tanto para produção em alto volume quanto para processamento em pequenos lotes. Ele pode lidar com uma ampla gama de materiais, desde carbeto de boro e pós cerâmicos até pó de tungstênio. Além disso, possui uma interface de usuário intuitiva que simplifica os fluxos de trabalho e mecanismos abrangentes de proteção de segurança, incluindo alarmes de sobretemperatura e detecção de vazamento de vácuo. Esses recursos o tornam uma solução versátil que pode ser integrada perfeitamente em ambientes de P&D de laboratório e ambientes de produção em escala industrial.
  • Forno a pressão quente para formação de pó cerâmico para componentes BN de semicondutores


Aplicação:                                                                                                                        

  • Materiais Cerâmicos:  Pó de carbeto de boro, pó de carbeto de silício NTI-RYL-20T, pó de nitreto de silício , e outros componentes cerâmicos avançados.Ligas Duras e MetaisNTI-RYL-20T, pó de ligas de carboneto
  • , tarugos metálicos e produtos de metalurgia do pó (por exemplo, ímãs de neodímio, NdFe14B).Especificação:                                                                                                             NTI-RYL-20TUso de ProduçãoNTI-RYL-20TNTI-RYL-50T



    Forno a pressão quente para formação de pó cerâmico para componentes BN de semicondutores


NTI-RYL-100T

NTI-RYL-200T

 

NTI-RYL-400T

NTI-RYL-600T

NTI-RYL-800T

Tamanho de Trabalho

mm

φ160x160

φ200x300

φ300x400

φ400x500

0-550

φ600x700

φ700x800

Tipo de Aquecimento

Resistência de Grafite

Tipo de Controle

/

Controle SCR

Taxa de aumento de pressão

 

Pa/h

3

Delta PLC

6

6

6

6

6

150

150

150

150

150

250

400

550

700

Vácuo Final

Pa

0-150

-3

Máx. temperatura de trabalho

°C

2300

23002300

2300

2300

2300

200

200

200

200

200

200

200

400

600

800

Deslocamento

mm

0-100

0-150

0-250

0-350

0-450

0-550

0-650

Ambiente de Trabalho

/

Vácuo ou Ar, Nitrogênio

proteção de atmosfera (micro pressão positiva)

Configuração do Forno:                                                                                                  

Sistema de Controle

: Modos de controle opcionais de 1 para 1 (um gabinete de controle para um forno), equipados com

Delta PLC

para operação estável e inteligente.Componentes padrão e opcionais principais:Sistema de Vácuo



: Unidade de vácuo de alto desempenho integrada (incluindo bomba de vácuo, grupo de válvulas) para manter um ambiente de vácuo estável durante a sinterização.


  • Purificador de Gás: Equipamento de purificação de gás de alta eficiência (opcional) para filtrar impurezas e garantir o fornecimento de gás limpo para processos controlados por atmosfera.Torre de Resfriamento: Equipamento de resfriamento opcional para obter dissipação de calor eficiente, garantindo a operação estável de componentes de alta temperatura.

Medição de Temperatura

  • : Equipado com termopar Tungstênio-Rênio para monitoramento em tempo real e preciso de alta temperatura (suporta controle de temperatura preciso de até 2300°C).Compressor de Ar
  • : Equipamento auxiliar opcional para fornecer fornecimento de ar estável para componentes pneumáticos.Vantagens de Recursos:                                                                                                                                    
  • Capacidade de Alta Temperatura: Atinge até 2300°C.
  • Vácuo e Aquecimento por Resistência: O ambiente a vácuo evita a oxidação do material.
  • Controle Preciso: Equipado com o Sistema de Controle de Temperatura de Alta Precisão FP93 Japonês Shimaden, garantindo processos de sinterização estáveis e qualidade consistente do produto.

 Versatilidade


  • : Compatível com uma ampla gama de materiais (carbono, cerâmicas, ligas, c/c, pós especiais), atendendo a diversas necessidades de produção.Segurança e Confiabilidade
  • : Equipado com mecanismos de proteção contra curto-circuito, sobrepressão, sobretemperatura, sobrecorrente, falta de água e outros para operação segura.Serviço Pós-Venda:                                                                                               
  • Oferecemos suporte pós-venda abrangente para garantir que seu equipamento opere sem problemas:Garantia
  • : Garantia de 1 ano para componentes elétricos principais contra defeitos de fabricação.Serviço Vitalício
  • : Suporte técnico vitalício, incluindo solução de problemas remota, orientação de manutenção e fornecimento de peças de reposição (cobrado para peças fora da garantia).Eficiência de Resposta

    Forno a pressão quente para formação de pó cerâmico para componentes BN de semicondutores

: Consulta online 24 horas para problemas urgentes; serviço no local (disponível globalmente) pode ser agendado com base em suas necessidades (custos de viagem extras).


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