ПЛК Контролируемая вакуумная резистивная печь для материалов SiC

Описание:                                                                                                                         

• Эта настраиваемая вакуумная резистивная печь разработана для массовой термической обработки керамики из оксидов редкоземельных элементов. Она использует эффективный резистивный нагрев с герметичной вакуумной камерой, достигая максимальной температуры 2200°C и предельного вакуума до 20 Па. Питание от трехфазного электричества 380 В с тиристорным регулятором мощности обеспечивает стабильную выходную температуру во время длительных непрерывных производственных циклов.
• Она оснащена прочной промышленной жесткой рамой для выдерживания повторяющихся циклических нагрузок в течение длительного срока службы. Интеллектуальный терморегулятор позволяет точно регулировать скорость нагрева и время выдержки, обеспечивая однородную термообработку больших партий. Это снижает отклонения материалов от партии к партии и повышает выход готовой продукции из передовых высокопроизводительных материалов.
• Интегрированы многочисленные автоматические системы блокировки безопасности, включая обнаружение утечек вакуума, отключение при перегреве и защиту от потери питания. Интуитивно понятный интерфейс человек-машина сокращает ручные операции и снижает риски безопасности. Она хорошо подходит для массового производства ПИ-пленки, радиационно-защитных веществ, оксидов редкоземельных элементов и различных керамических заготовок.
• Вакуумная печь для спекания с графитовым нагревом, разработанная для безмуфельного спекания полупроводникового карбида кремния, с пиковой рабочей температурой 2000°C.

Применение:                                                                                                                        

• Производство твердых сплавов: Крупномасштабная термообработка деталей из карбида вольфрама и рениевых сплавов для режущих инструментов и машин.
• Производство компонентов SiC: Массовое спекание карбида кремния для применения в полупроводниковой и промышленной технике.
• Обработка углеродных материалов: Высокопроизводительная отжиг ПИ-пленки и радиационно-защитных материалов для промышленных цепочек поставок.

Спецификация:                                                                                                             

Конфигурация печи:                                                                                                  

• Высокотемпературная способность: Достигает 2200°C.
• Вакуумный и резистивный нагрев: Вакуумная среда предотвращает окисление материала.
• Точное управление: Оснащен высокоточным системой контроля температуры FP93 японской фирмы Shimaden, обеспечивающей стабильные процессы спекания и стабильное качество продукции.
• Универсальность: Совместим с широким спектром материалов (углерод, керамика, сплавы, C/C, специальные порошки), удовлетворяя разнообразные производственные потребности.
• Безопасность и надежность: Оснащен механизмами защиты от короткого замыкания, избыточного давления, перегрева, перегрузки по току, нехватки воды и другими механизмами для безопасной работы.

•