PLC Four à résistance sous vide contrôlé pour matériaux SiC

Description:                                                                                                                         

• Ce four à résistance sous vide personnalisable est conçu pour le traitement thermique en masse de céramiques d'oxydes de terres rares. Il adopte un chauffage par résistance efficace avec une chambre à vide hermétiquement scellée, atteignant une température maximale de 2200°C et un vide ultime jusqu'à 20Pa. Alimenté par un courant triphasé de 380V avec régulateur de puissance à thyristors, il maintient une sortie de température stable pendant de longs cycles de production continus.
• Il est doté d'un cadre rigide industriel robuste pour supporter des opérations cycliques répétées sur une longue durée de service. Le contrôleur de température intelligent permet un réglage fin de la vitesse de montée en température et du temps de maintien, offrant un traitement thermique homogène pour de grands lots. Il réduit la déviation des matériaux d'un lot à l'autre et augmente le rendement des matériaux avancés haute performance.
• Plusieurs systèmes de verrouillage de sécurité automatiques sont intégrés, notamment la détection de fuite de vide, l'arrêt en cas de surchauffe et la protection contre les pannes de courant. L'interface homme-machine intuitive réduit les opérations manuelles et diminue les risques de sécurité. Il est bien adapté à la fabrication en masse de films PI, de substances de blindage contre les radiations, d'oxydes de terres rares et de diverses pièces en céramique.
• Four de frittage sous vide chauffé au graphite conçu pour le frittage sans pression de carbure de silicium semi-isolant, avec une température de fonctionnement maximale de 2000°C.

Application:                                                                                                                        

• Fabrication d'alliages durs: Traitement thermique à grande échelle de pièces en carbure de tungstène et en alliage de rhénium pour outils de coupe et machines.
• Production de composants SiC: Frittage en masse de carbure de silicium pour applications dans les semi-conducteurs et les équipements industriels.
• Traitement de matériaux carbonés: Dégraissage à haut débit de films PI et de matériaux résistants aux radiations pour les chaînes d'approvisionnement industrielles.

Spécification:                                                                                                             

Système de contrôle

• : Atteint jusqu'à 2200°C.Chauffage sous vide et par résistance
• : L'environnement sous vide empêche l'oxydation des matériaux.Contrôle précis
• : Équipé du système de contrôle de température de haute précision Shimaden FP93 japonais, assurant des processus de frittage stables et une qualité de produit constante.Polyvalence
• : Compatible avec une large gamme de matériaux (carbone, céramiques, alliages, c/c, poudres spéciales), répondant à divers besoins de production.Sécurité et fiabilité
• : Équipé de mécanismes de protection contre les courts-circuits, les surpressions, les surchauffes, les surintensités, le manque d'eau, et autres pour un fonctionnement sûr.Service après-vente:                                                                                               

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