PLC Horno de Resistencia al Vacío Controlado para Material SiC

Descripción:                                                                                                                         

• Este horno de resistencia al vacío personalizable está diseñado para el procesamiento térmico masivo de cerámicas de óxido de tierras raras. Adopta calentamiento por resistencia eficiente con una cámara de vacío herméticamente sellada, alcanzando una temperatura máxima de 2200°C y un vacío final de hasta 20Pa. Alimentado por electricidad trifásica de 380V con regulador de potencia de tiristor, mantiene una salida de temperatura constante durante largos ciclos de producción continua.
• Cuenta con un marco rígido industrial de alta resistencia para soportar operaciones cíclicas repetidas durante un tiempo de servicio prolongado. El controlador de temperatura inteligente permite un ajuste fino de la velocidad de rampa de calentamiento y el tiempo de remojo, ofreciendo un tratamiento térmico homogéneo para grandes lotes. Reduce la desviación del material entre lotes y aumenta el rendimiento de los materiales avanzados de alto rendimiento.
• Se integran múltiples sistemas automáticos de enclavamiento de seguridad, que incluyen detección de fugas de vacío, apagado por sobretemperatura y protección contra pérdida de energía. La interfaz intuitiva hombre-máquina reduce las operaciones manuales y disminuye los riesgos de seguridad. Es muy adecuado para la fabricación masiva de películas de PI, sustancias de protección contra la radiación, óxidos de tierras raras y diversas piezas de trabajo cerámicas.
• Horno de sinterización al vacío con calentamiento de grafito diseñado para la sinterización sin presión de carburo de silicio semi-conductor, con una temperatura máxima de operación de 2000°C.

Aplicación:                                                                                                                        

• Fabricación de Aleaciones Duras: Tratamiento térmico a gran escala de piezas de carburo de tungsteno y aleación de renio para herramientas de corte y maquinaria.
• Producción de Componentes de SiC: Sinterización masiva de carburo de silicio para aplicaciones en semiconductores y equipos industriales.
• Procesamiento de Materiales de Carbono: Desaglomeración de alta producción de películas de PI y materiales a prueba de radiación para cadenas de suministro industriales.

Especificación:                                                                                                             

Sistema de Control

• : Alcanza hasta 2200°C.Vacío y Calentamiento por Resistencia
• : El entorno de vacío previene la oxidación del material.Control Preciso
• : Equipado con el Sistema de Control de Temperatura de Alta Precisión FP93 Shimaden japonés, asegurando procesos de sinterización estables y una calidad de producto consistente.Versatilidad
• : Compatible con una amplia gama de materiales (carbono, cerámicas, aleaciones, c/c, polvos especiales), satisfaciendo diversas necesidades de producción.Seguridad y Fiabilidad
• : Equipado con mecanismos de protección contra cortocircuitos, sobrepresión, sobretemperatura, sobrecorriente, falta de agua y otros para una operación segura.Servicio Postventa:                                                                                               

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