PLC Forno de Resistência a Vácuo Controlado para Material SiC

Descrição:                                                                                                                         

• Este forno de resistência a vácuo personalizável é projetado para o processamento térmico em massa de cerâmicas de óxido de terras raras. Adota aquecimento por resistência eficiente com câmara de vácuo hermeticamente selada, atingindo temperatura máxima de 2200°C e vácuo final de até 20Pa. Alimentado por eletricidade trifásica de 380V com regulador de potência tiristor, mantém saída de temperatura estável durante longos ciclos de produção contínua.
• Possui uma estrutura rígida industrial de alta resistência para suportar operações cíclicas repetidas ao longo de um tempo de serviço estendido. O controlador de temperatura inteligente permite o ajuste fino da velocidade de rampa de aquecimento e do tempo de imersão, proporcionando tratamento térmico homogêneo para grandes lotes. Reduz a variação de material de lote para lote e aumenta o rendimento de materiais avançados de alto desempenho.
• Múltiplos sistemas automáticos de intertravamento de segurança são integrados, incluindo detecção de vazamento de vácuo, desligamento por excesso de temperatura e proteção contra perda de energia. A interface intuitiva homem-máquina reduz as operações manuais e diminui os riscos de segurança. É bem adequado para a fabricação em massa de filmes de PI, substâncias de blindagem contra radiação, óxidos de terras raras e diversas peças de cerâmica.
• Forno de sinterização a vácuo aquecido por grafite projetado para sinterização sem pressão de carboneto de silício semi-isolante, com temperatura máxima de operação de 2000°C.

Aplicação:                                                                                                                        

• Fabricação de Ligas Duras: Tratamento térmico em larga escala de peças de carboneto de tungstênio e liga de rênio para ferramentas de corte e máquinas.
• Produção de Componentes de SiC: Sinterização em massa de carboneto de silício para aplicações em semicondutores e equipamentos industriais.
• Processamento de Materiais de Carbono: Desaglomeração de alto rendimento de filmes de PI e materiais à prova de radiação para cadeias de suprimentos industriais.

Especificação:                                                                                                             

: Opcional 1 para 1 (um gabinete de controle para um forno), equipado com

• Vácuo e Aquecimento por Resistência: O ambiente de vácuo evita a oxidação do material.
• Controle Preciso: Equipado com Sistema de Controle de Temperatura de Alta Precisão Shimaden Japonês FP93, garantindo processos de sinterização estáveis e qualidade consistente do produto.
• Versatilidade: Compatível com uma ampla gama de materiais (carbono, cerâmicas, ligas, c/c, pós especiais), atendendo a diversas necessidades de produção.
• Segurança e Confiabilidade: Equipado com mecanismos de proteção contra curto-circuito, sobrepressão, sobretemperatura, sobrecorrente, falta de água e outros para operação segura.
• Serviço Pós-Venda:                                                                                               Oferecemos suporte pós-venda abrangente para garantir que seu equipamento opere sem problemas:

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